ورود به حساب کاربری

خرید کتاب Advances in Research and Development

اعمال کد تخفیف
مبلغ قابل پرداخت 20,000 تومان
لغو
این بخش در حال توسعه می باشد و به زودی در دسترس شما عزیزان قرار میگیرد
بستن
کاربر محترم لینک های دانلود حداکثر تا ۳ ساعت دیگر به شماره شما پیامک می شود
از صبر و شکیبایی شما ممنونیم
بستن
برای خرید و دانلود فایل باید وارد شوید
ثبت نام / ورود بستن
Advances in Research and Development

Advances in Research and Development

Advances in Research and Development
افزودن به بوکمارک اشتراک گذاری 0 دیدگاه کاربران 5 (0)

Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching: Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching

مشارکت: عنوان و توضیح کوتاه هر کتاب را ترجمه کنید این ترجمه بعد از تایید با نام شما در سایت نمایش داده خواهد شد.
ترجمه این کتاب مشاهده همه کتاب های ترجمه نشده
Advances in Research and Development
Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching: Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching
This latest volume of the well-known Physics of Thin Films Series includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalancedmagnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.
Key Features
* Chapter One develops a unified framework from which all "high-efficiency" sources may be viewed and compared; outlines key elements of source design affecting processing results; and highlights areas where additional research and development are needed
* Chapter Two reviews and analyzes the main types of electron cyclotron resonance (ECR) plasma sources suitable for ECR PACVD of thin films, mainly ECR sources using magnet coils
* Chapter Three examines the benefits and limitations of the new technique, unbalanced magnetron sputtering (UBM), along with the motivation for its development, the basic principles of its operation and commercial applications, and some speculations regarding the future of UBM technology
* Chapter Four describes general phenomena observed in connection with particle formation in thin film processing plasmas; discusses particles in PECVD plasmas, sputtering plasmas, and RIE plasmas; presents an overview of the theoretical modeling of various aspects of particles in processing plasmas; examines issues of equipment design affecting particle formation; and concludes with remarks about the implications of this work for the control of process-induced particle contamination.
لغو
iran گزارش تخلف

گزارش تخلف

بستن

فرمت کتاب

ebook

زبان

english

تاریخ انتشار

1994

نویسنده

John L. Vossen

نویسنده

John L. Vossen

ناشر

Academic Press

ناشر

Academic Press

شابک

9780080925134
20,000 تومان
خرید کتاب مطالعه نمونه درخواست ترجمه کتاب
  • اطلاعات
  • دیدگاه کاربران
برای مطالعه توضیحات وارد حساب کاربری خود شوید

دیدگاه کاربران

دیدگاه خود را بنویسید
|
افزایش درآمد افزایش درآمد بهترین های کودک و نوجوان بهترین های کودک و نوجوان میخوای آموزش ببینی میخوای آموزش ببینی
قوانین و مقررات

بوکم با هدف خدمات محتوایی به پژوهشگران، اساتید و دانشجویان راه اندازی شده است. ما را در ارائه خدمات بهتر یاری داده و به گسترش بوکم کمک نمایید.

قوانین استفاده از بوکم:
1- کاربران موظف به استفاده ضحیح از محتوای رایگان و یا قابل خریداری سایت هستند و این استفاده باید در دایره ی قوانین حاکم در جمهوری اسلامی ایران باشد.
2- بوکم در دایره ی قوانین جمهوری اسلامی ایران فعالیت دارد و از قوانین مالکیت فکری و کپی رایت طبق قواعد جمهوری اسلامی ایران فعالیت میکند. چنانچه در این مورد سهوا اشتباهی انجام شده لطفا اطلاع بدهید تا سریعا پیگیری شود.
3- به خاطر تغییراتی که در فروشگاه های مرجعی که بوکم از آنها کتاب تهیه میکند پیش می آید، ممکن است کتاب خریداری شده ی کاربر قابل تهیه کردن نباشد که در این صورت بوکم مبلغ پرداختی کاربر را به حساب او عودت داده و یا کیف پول او نزد بوکم را شارژ می نماید.
4- بیشتر از کتابهای درخواستی به صورت آنی در اختیار خریدار قرار میگیرد. مواردی که آنی قابل ارسال نیست حداکثر در سه ساعت در زمان کاری تهیه شده و به کاربر اطلاع داده شده و لینک دانلود برای او ارسال میشود.
5- کاربران موظف به حفظ محتوای خریداری شده توسط خودشان هستند و بوکم تعهد نگهداری یک ماه از کتاب خریداری شده توسط کاربر را دارد.
6- کاربرانی که در تامین محتوا و همکاری در فروش با بوکم همکاری دارند بایست طبق قوانین جمهوری اسلامی ایران اقدام به فروش در پلتفرم بوکم نمایند و پاسخگوی مراجع ذی صلاح درباره محتوای فروشی خود در بستر بوکم را به عهده دارند.
7- فایل فروخته شده با ارائه دلیل منطقی(مثل کیفیت نامناسب کتاب برای خوانش) تا 24 ساعت از سوی کاربر قابل عودت می باشد.

پذیرفتن