Investigation on SiGe selective epitaxy for source and drain engineering in 22 nm CMOS technology node and beyond
فرمت کتاب
ebook
زبان
english
تاریخ انتشار
2020
نویسنده
Guilei Wangنویسنده
Guilei Wangشابک
9789811500466
- اطلاعات
- دیدگاه کاربران
دیدگاه کاربران